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電源工程師面試筆試指南
最近看網上多了很多畢業設計相關的帖子,原來又到一年畢業時,感嘆時間的飛快! 回想起自己當年鄰近畢業的那段,除了忙于畢業設計,印象最深的就是找工作---參加校園招聘的日子。
電源工程師面試筆試指南
參加過IC公司、電源公司的招聘,大多是“筆試+面試”的模式。
華為電源面試,是我參加過的最正式和流程最多的面試,沒有之一。我認為有機會,多參加這樣的面試,你會學到更多。
本帖分享下我的華為電源面試經歷,和大家交流,同時也希望能給即將畢業的或者新人做個參考。
帖中將包括兩部分內容:
1、 華為電源面試過程分享
2、 面(筆)試題分享
(有華為的面試題、IC公司招AE的筆試題、電源公司招工程師的筆試題,題目不是很難,但我覺得都很好,各位看看對幾個。)
下面開始
第一部分:華為電源面試過程
參加華為電源的招聘,比較偶然,那時候剛好到我們學校來招聘,而我原來在外面實習,因為畢業論文要回校處理,就這么碰上了。
華為電源校招時沒有筆試題,主要是以下幾個流程,我畫了張圖。個別的由于時間安排關系,順序會有調整。
面試過程中給人一種壓力感,從網申開始,每一關都可能刷人。這面試有點像游戲中的打怪升級。
最近看論壇多了很多畢業設計相關的帖子,原來又到一年畢業時,感嘆時間的飛快! 回想起自己當年鄰近畢業的那段,除了忙于畢業設計,印象最深的就是找工作---參加校園招聘的日子。
參加過IC公司、電源公司的招聘,大多是“筆試+面試”的模式。
華為電源面試,是我參加過的最正式和流程最多的面試,沒有之一。我認為有機會,多參加這樣的面試,你會學到更多。
本帖分享下我的華為電源面試經歷,和大家交流,同時也希望能給即將畢業的或者新人做個參考。
下面包括兩部分內容:
1、 華為電源面試過程分享
2、 面(筆)試題分享
(有華為的面試題、IC公司招AE的筆試題、電源公司招工程師的筆試題,題目出的都蠻好,各位看看能否拿多少分。)
開關電源工程師面試題--你能打多少分?
共25題1---20題每題3分21---25題每題8分(答案見文章末尾處)
1 , 一般情況下,同功率的開關電源與線性電源相比, _____ 。
A, 體積大,效率高
B,體積小,效率低
C, 體積不變,效率低
D, 體積小,效率高
2 ,大功率開關電源常用變換拓撲結構形式是 _____ 。
A, 反激式
B, 正激式
C, 自激式
D, 他激式
3,一般來說,提高開關電源的頻率,則電源_____。
A,同體積時,增大功率
B,功率減小,體積也減小
C,功率增大,體積也增大
D,效率提高,體積增大
4,肖特基管和快恢復管常作為開關電源的____。
A,輸入整流管
B,輸出整流管
C,電壓瞬變抑制管
D,信號檢波管
5,肖特基管與快恢復管相比,____。
A,耐壓高
B,反向恢復時間長
C,正向壓降大
D,耐壓低,正向壓降小
6,GTR、SCR、GTO、TRIAC、MOSFET、IGBT中,那些是開關電源中變壓器常用的驅動元件?____。
A,GTO和GTRB,TRIAC和IGBT
C,MOSFET和IGBT
D,SCR和MOSFET
7,開關電源變壓器的損耗主要包括:____。
A,磁滯損耗、銅阻損耗、渦流損耗
B,磁滯損耗、銅阻損耗、介電損耗
C,銅阻損耗、渦流損耗、介電損耗
D,磁滯損耗、渦流損耗、介電損耗
幾個開關電源工程師基礎筆試題
1、普通二極管和電力電子用的二極管在結構上有什么區別?提示:psn結構,s層的作用是什么?可以從雜質摻雜濃度來分析。
2、在現代開關器件中,經?梢钥吹絧unch through技術的應用。請介紹一下這種技術的原理和它的優點(相比起沒有使用此技術的器件)。
3、IGBT有“電導調制”的特點,應此igbt在大電流,較低頻率的應用場合較MOSFET更有優勢。何謂電導調制?
4、thyristor和gto結構上大同小異,但后者卻能夠實現主動關斷。請介紹一下生產工藝上的差異。
5、在大電流應用場合,有時需要多管并聯。現在可供選擇的器件有igbt和mosfet。哪些可以用于并聯,哪些不可以?原因是什么?
6、在常用的dcdc converter中,如buck converter 或boost converter,二極管的反相恢復時間對能量損耗的影響很大。為改善損耗,請給出兩種方法。提示:新器件及拓撲結構。
答案往下(僅供參考而已)
1答:通常為了增加二極管的耐壓,理論上可以增厚pn結,并且降低雜質濃度,但是缺點是正相導通損耗變大。
通過加一層低雜質的s層,性能得到改觀:正相導通的時候s層完全導通,近似于短路,直接pn連接,所以壓降小;反相接電壓的時候,由于s層的雜質濃度低,電導低,或者說此s層能夠承受的最大電場E較大,所以s層能夠承受較大電壓而不被擊穿。
2答:在開關器件中,用于提高耐壓的s層往往并沒有得到充分的利用,因為s層的一端耐壓為Emax的時候,另外一段為0,也就是說,E在s層并不是均勻分布的,Umax~0.5(Emax+Emin)——注意,器件耐壓只取決于s層中E對于l長度的積分。punch through就是在s層與pn結直接再加一層高雜質摻雜的薄層,使得此層中電場由Emax變化到Emin=0,而真正的s層中處處場強都接近于Emax。
理論上,通過punch through技術,s層的寬度可以減少50%——在耐壓不變的前提下。實際中由于s層必須有一定的電導,寬度會略大于50%。
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